1. Нанолитография және оның мақсаты
Нанолитография – бұл қатты бетке наноөлшемді құрылымдар түсіруге арналған заманауи технология. Ол микро- және наноэлектроникада, сенсорлар жасауда, оптоэлектрондық құрылғыларда кеңінен қолданылады. Негізгі мақсаты – жоғары дәлдікпен наноүлгілер алу және оларды басқарылатын құрылымдарға айналдыру.

2. Оптикалық литография принципі және түрлері
Оптикалық литография – маска арқылы жарық сәулесін фоторезистпен жабылған бетке бағыттау арқылы үлгі алу әдісі. Бұл әдіс жарықтың интерференциясына негізделген. Оның негізгі түрлері: контактты литография, проекциялық литография және иммерсионды литография. Әр түрі жарық көзі мен фокус арақашықтығына байланысты ерекшеленеді.

3. Электрондық сәулелік литография: артықшылықтар мен шектеулер
Электрондық сәулелік литография (ESL) өте жоғары дәлдікпен (10 нм-ге дейін) құрылымдар алуға мүмкіндік береді. Оның басты артықшылығы – маска қажет етілмейді, кез келген күрделі үлгіні компьютер арқылы басқаруға болады. Шектеулері – баяу жұмыс істеуі, жоғары құны және үлкен өндірістік көлемдерге жарамсыздығы.

4. Сканерлеуші зонд литографиясының әдістері
Бұл литография түрі атомдық-күштік микроскопия (AFM), дип-пен нанолитография (DPN), термолитография сияқты әдістерді қамтиды. Бұл тәсілдер зондтың көмегімен бетпен тікелей әрекеттесу арқылы наноқұрылымдар жасауды көздейді. Ерекшелігі – өте жоғары кеңістіктік дәлдік және бетпен жанасу арқылы үлгі салу.

5. Нанотаңбалы литографияның принципі
Нанотаңбалы литография (nanoimprint) – арнайы қалыпты (штампты) пайдалана отырып, субстрат бетіне физикалық қысым арқылы құрылымдарды басып шығару. Бұл әдіс арқылы үлкен аумақты бір уақытта өңдеуге болады. Оның қарапайымдылығы мен арзандығы оны өндірісте тиімді етеді.

6. Литография процесінің кезеңдері
Литографиялық процесс бірнеше кезеңнен тұрады:

1. Субстратты дайындау;
2. Фоторезист қабатын жағу (мысалы, центрифугалау арқылы);
3. Кептіру және экспозиция (жарықпен әсер ету);
4. Айқындау (еріткішпен өңдеу);
5. Этчинг (қажетті қабатты ойып алу);
6. Қалдық фоторезистті жою.

7. Фоторезист және оның қасиеттері
Фоторезист – жарыққа сезімтал полимер, литографияда үлгіні қалыптастыру үшін қолданылады. Ол жарықтың әсерінен химиялық құрамын өзгертеді. Қажетті қасиеттері: жоғары сезімталдық, бетке жақсы жабысу (адгезия), термиялық тұрақтылық және жақсы рұқсаттылық.

8. Фотоқабатты жағу әдістері: центрифугалау мен аэрозольді бүрку
Центрифугалау – фоторезисті бетке тамызып, жоғары жылдамдықпен айналдыру арқылы біркелкі жұқа қабат алу әдісі. Аэрозольді бүрку – фоторезисті ұсақ тамшылар түрінде шашу. Біріншісі – жазық беттерге тиімді, екіншісі – күрделі геометриялы беттерге жарамды, бірақ біркелкілігі төмен болуы мүмкін.

9. Айқындау кезеңіндегі өзгерістер
Айқындау – фоторезисттің жарық түскен аймағында химиялық өзгерістер жүру кезеңі. Позитивті резисттерде жарық түскен жер ериді, ал негативті резисттерде керісінше – жарық түскен жерде полимерлену жүреді. Бұл процесс нәтижесінде үлгі пайда болады.

10. Вакуумды-плазмалық өңдеудің артықшылығы
Вакуумды-плазмалық өңдеу – бетті өте жоғары дәлдікпен тазалау, травление немесе модификациялау әдісі. Оның артықшылығы – маскасыз жұмыс істеу, төмен температурада өңдеу, экологиялық тазалық және күрделі наноқұрылымдарды жасауға мүмкіндік береді.